真空技術(shù)已是現(xiàn)今高科技市場(chǎng)不可或缺的一環(huán)。過去一再證明真空技術(shù)是產(chǎn)品創(chuàng)新的重要關(guān)鍵。
Manz 因此建立了專業(yè)的真空技術(shù)團(tuán)隊(duì),50位專家當(dāng)中有許多人在此專業(yè)領(lǐng)域的經(jīng)驗(yàn)已達(dá)20年以上。Manz 真空技術(shù)團(tuán)隊(duì)的核心能力在于能根據(jù)客戶需求,開發(fā)用于薄膜太陽能電池模組大量生產(chǎn)及試作成產(chǎn)的全新真空設(shè)備。
Manz 提供各種新穎的濺鍍、蒸鍍與電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)( PECVD)制程真空設(shè)備。其產(chǎn)品組合包含垂直與水平串接式生產(chǎn)系統(tǒng)以及多室批次生產(chǎn)設(shè)備。采用模組化概念,讓客戶視需求建立靈活的設(shè)備配置。
Manz 濺鍍?cè)O(shè)備每年產(chǎn)量最高可達(dá) 1,600,000 m²,遠(yuǎn)在平均值之上。不僅如此極低的生產(chǎn)成本及極小化的設(shè)備占底面積,Manz 濺鍍?cè)O(shè)備PECVD能有效幫助降低總擁有成本。
串接式濺鍍?cè)O(shè)備?
串接式濺鍍?cè)O(shè)備的模組化概念,使正、反面接觸層及吸收層的設(shè)備配置更加靈活。
- 應(yīng)用生產(chǎn)驗(yàn)證工具概念,以極高的系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)間進(jìn)行大量生產(chǎn),大幅節(jié)省成本
- 利用尖端薄膜沉積技術(shù)(DC、pDC、MF 回轉(zhuǎn)陰極與 DC、pDC、MF、RF 平面陰極)以低生產(chǎn)成本達(dá)成最高良率
- 獨(dú)特的無微粒傳輸系統(tǒng)可創(chuàng)造絕佳薄膜均勻度,并確保最高產(chǎn)量
- 采全模組化設(shè)計(jì),可打造客制化設(shè)備配置,切合客戶需求
- 極小化的設(shè)備占地面積即能達(dá)到最高產(chǎn)量,有效幫助降低總擁有成本
串接式共蒸鍍?cè)O(shè)備?
串接式共蒸鍍?cè)O(shè)備是專門用于高溫沉積制程的標(biāo)準(zhǔn)化模組概念。
- 利用最小的設(shè)備占地面積達(dá)到最高產(chǎn)量,降低總擁有成本
- 采全模組化設(shè)計(jì),可打造客制化設(shè)備配置,切合客戶需求