對太陽能電池生產PECVD工藝后所鍍氮化硅膜層的膜層厚度進行測試，可給出膜厚分布的MAP圖。也可對所鍍膜層的光學折射率n值進行測量。
設備有離線和在線檢測設備，每秒中一片硅片可測試采樣4000個點。