激光刻膜機技術特點
•采用半導體端面泵浦光纖耦合全固態激光器，性能指標包括脈沖的穩定性、脈寬、峰值功率等參數均達到世界先進水平。
•膜面朝上非接觸式工作臺設計不但能有效的解決玻璃運行中的平穩性，還能解決玻璃摩擦問題。
•采用全自動控制，包括自動進出料、自動識別、自動跟蹤、自動校正和自動定位。
•自動校正和自動定位，這在國際還是首創。當檢測到電池片缺陷時，可立即進行重刻和補刻。


激光刻膜機型號規格 SEF-G5
有效加工幅面 1.1m×1.4m（或635mm×1245mm ）
最大運行速度 2000mm/s
重復定位精度 ±10μm
刻線直線度 ±10μm / 1000 mm
典型刻膜線寬 30～60μm
三線外沿總寬度 300～500μm

激光刻膜機設備性能
•該設備采用非接觸式的工作臺，不但解決了玻璃運行中的平穩性，還有效地解決了摩擦問題。
•使用世界一流的高性能激光器，其性能指標包括脈沖的穩定性、脈寬、峰值功率等參數均達到世界先進水平。
•控制方面，采用全自動控制，包括自動進出料、自動識別、自動跟蹤、自動校正和自動定位，這在國際還是首創。
•當檢測到電池片缺陷時，可立即進行重刻和補刻；更可選擇全部檢測或抽檢。
•G5”屬于高標設備配置，國內的客戶基本要做的是“減法”而不是“加法”。當客戶不需要某些功能時，可根據要求去除,更可根據實際要求進行定制。
激光刻膜機應用及市場
非晶硅薄膜太陽電池的透明導電膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背電極膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻線、切割），其它薄膜電池的膜層刻膜（金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜、碲化鎘CdTe薄膜）。
詳情請查詢：www.sunic.org